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[期刊论文] 作者：谭光斗,,
来源：光学工程 年份：1986
本文简要地叙述了正性光刻胶的基本特性,详细地讨论了它的感光机理和工艺参数的选择。从理论和实践上解决了正性光刻胶在圆分划元件光刻中的应用和工艺最佳化,并刻出了不同直...
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