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[期刊论文] 作者:贺开矿, 来源:半导体技术 年份:2005
叙述了表面活性剂的性质、分类、分子结构特点,重点介绍了表面活性剂在光刻工艺的涂胶、显影、湿刻工序中的应用.适当加入表面活性剂,在现有设备的条件下可极大地提高光刻质...
[期刊论文] 作者:贺开矿,霍桂平, 来源:电力电子技术 年份:1990
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