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[期刊论文] 作者:刘皖南,郭仕通,霍金虎,冯玉扉,姜剑锋,
来源:集成电路应用 年份:2022
阐述半导体制造过程中的重要设备气体纯化器的发展背景,气体纯化设备的国产化替代历程,存在的问题和应对的策略,从而适应集成电路产业的发展步伐....
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