搜索筛选:
搜索耗时0.1219秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 9 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：崔增丽,黄致信,郭继花,
来源：纳米科技 年份：2009
采用反应射频磁控溅射方法，在玻璃基底上成功制备出了氮化铜（Cu3N）薄膜，并研究了溅射参数对Cu3N薄膜的结构和性能的影响，结果显示，随着溅射功率和氮气分压的增加，氮化铜薄膜的择优取......
[期刊论文] 作者：王辉,郭继花,黄致新,
来源：信息记录材料 年份：2010
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo系列非晶垂直磁化膜，研究了溅射工艺对SmTbFeCo薄膜性能的影响。结果表明：溅射气压为0．5Pa、溅射功率为75W、厚度在100nm条件下...
[期刊论文] 作者：冯小源,郭继花,黄致新,
来源：磁性材料及器件 年份：2009
磁记录是当今信息社会主要的信息记录方式。本文综述了热辅助新型光磁混合记录介质的研究状况以及最新进展情况，重点介绍了垂直磁记录和光磁混合记录的原理和优缺点比较，并对光......
[期刊论文] 作者：郭继花,黄致新,张峰,崔增丽,,
来源：华中师范大学研究生学报 年份：2007
要形成垂直磁化膜,必须要有足够强的垂直磁各向异性能,使得由于磁化而产生的退磁场能量不足以让磁化矢量位于膜面内。在垂直磁记录情形下,针对垂直磁各向异性常数Ku、磁化矢...
[期刊论文] 作者：刘敏,崔增丽,黄致新,郭继花,张峰,,
来源：华中师范大学学报(自然科学版) 年份：2008
采用反应射频磁控溅射方法，在氮气和氩气混合气氛下并在玻璃基底上成功制备出了纳米氮化铜（Cu3N）薄膜，许研究了溅射功率对Cu3N薄膜的择优取向、平均晶粒尺寸、电阻率、光学能隙的......
[期刊论文] 作者：郭继花,黄致新,崔增丽,杨磊,邵剑波,
来源：华中师范大学学报：自然科学版 年份：2009
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜，研究了溅射功率对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响．测量结果表明：基片与靶间距为72mm，溅射功率为75w，溅射气压为0．5P......
[期刊论文] 作者：朱宏生,冯小源,朱洪杰,林玉,郭继花,黄致新,
来源：信息记录材料 年份：2009
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了GdTbFeCo非晶薄膜，通过调节溅射时间制备出了不同厚度的薄膜，并研究了膜厚对薄膜磁光性能的影响。磁光特性测试仪的测试结果表明：溅射功率......
[期刊论文] 作者：郭继花,黄致新,崔增丽,杨磊,邵剑波,朱宏生,章平,
来源：功能材料 年份：2009
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了GdTbFeCo非晶垂直磁化膜，研究了溅射工艺对GdTbFeCo薄膜磁光性能的影响。测量结果表明，基片与靶间距为72mm，溅射功率为75W，溅射气压为0...
[期刊论文] 作者：张峰,黄致新,兰智高,崔增丽,郭继花,程伟明,杨晓非,,
来源：Journal of Rare Earths 年份：2008
有垂直 anisotropy 的一系列 SmCo/Cr/TbFeCo 多层的薄电影被 Cr 夹层厚度的 RF 磁控管劈啪作响系统，和效果在磁性上准备，联合的夹层交换被调查。与 Cr 夹层，特别浸透磁化女士的...
相关搜索：
