搜索筛选:
搜索耗时2.8135秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 30 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：曾娅,魏雄周,万彬,黎敏,闵泰烨,
来源：液晶与显示 年份：2020
为了提升液晶显示器的透过率,优化产品白平衡提升色温,本研究在液晶显示器行业内首次使用了全染料系的蓝色光阻材料,并搭配实际产品,对该材料进行了一系列应用性评价。首先,...
[期刊论文] 作者：张金中,张文余,谢振宇,陈旭,闵泰烨,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2012
在TFT小型化趋势下,需要进一步提高氢化非晶硅薄膜晶体管的TFT特性,尤其是开态电流特性。本文结合生产实际,阐述了工艺上改善氢化非晶硅开态电流特性的方法,包括提高单位面积...
[期刊论文] 作者：曲连杰,郭建,史大为,陈旭,闵泰烨,杨莉,,
来源：液晶与显示 年份：2015
为了满足市场对显示产品高分辨率的要求,需要从产品的设计和工艺各个方面进行优化,其中过孔尺寸和线宽两个因素对阵列基板分辨率影响最大,本文通过相移掩模技术可以实现对过...
[期刊论文] 作者：张秀琴,许益祯,邵正坤,闵泰烨,刘毅,
来源：科技创新与应用 年份：2020
文章基于使用负性液晶的显示屏,为实现TFT LCD的电路设计优化,对系统电源电路简化方面进行相关研究。首先,根据TFT LCD电路驱动原理介绍了目前常用的电源驱动架构。进而,以正...
[期刊论文] 作者：李婧, 张金中, 谢振宇, 阎长江, 陈旭, 闵泰烨,,
来源：液晶与显示 年份：2013
利用等离子化学气相沉积法连续制备SiNx：H和a-Si：H薄膜。通过电学、光学、力学测试研究了SiNx：H薄膜沉积条件对其界面性能的影响。研究结果表明,过度的富硅化将显著增大体系的界......
[期刊论文] 作者：曲连杰,陈旭,郭建,闵泰烨,谢振宇,张文余,
来源：液晶与显示 年份：2012
研究了氮化硅材料在触摸屏领域中的应用,利用等离子体化学气相沉积技术,在一定厚度的玻璃表面沉积不同厚度的氮化硅薄膜。通过理论分析和试验测试的方法得到了氮化硅膜层厚度...
[会议论文] 作者：范宇光,李京鹏,宋省勋,王威,闵泰烨,张学智,
来源：2014中国平板显示学术会议 年份：2014
本文分析和改善了TFT-LCD模组制程中线性碎亮点(Line Zara)不良,分析结果:由于抛光过程中彩膜(Colour Filter,CF)对盒内支撑物(Post Spacer,PS)与TFT摩擦导致PS表面聚酰亚胺(...
[期刊论文] 作者：张腾, 张秀琴, 梁利生, 许益祯, 闵泰烨, 孙耒来,,
来源：科技创新与应用 年份：2019
为了实现对TFT LCD RGB屏的画质评价,建立了TFT LCD RGB 屏驱动电压纹波对画质影响的测试,对TFT LCD RGB屏的电源系统所采用驱动电压的纹波以及测试画面画质等进行研究。首先...
[会议论文] 作者：范宇光,李京鹏,李建,谢振宇,闵泰烨,张学智,
来源：2015光电子玻璃及材料技术交流研讨会 年份：2015
本文分析了显示屏减薄的两种方式,即化学减薄,物理减薄,以及各种减薄后的显示屏容易出现的几种不良:凹点,划伤,抛光Zara,ITO污渍,Embossing凹点,通过原理分析和验性测试,本文...
[期刊论文] 作者：许卓, 金熙哲, 吴海龙, 周焱, 张智, 闵泰烨, 袁剑峰,
来源：液晶与显示 年份：2018
残像是影响TFT-LCD画面品质的重要因素,也是发生原因最为复杂的一种不良。本论文提出了一种定量测量残像水平的方法,同时对TFT特性引起的残像不良进行了实验研究,得到了由TFT...
[期刊论文] 作者：李田生,陈旭,谢振宇,徐少颖,闵泰烨,张学智,,
来源：液晶与显示 年份：2014
为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,之前做过钝化层沉积工艺优化来减小液晶面板阵列工艺中连接像素...
[期刊论文] 作者：周伟峰,薛建设,金基用,刘翔,明星,郭建,陈旭,闵泰烨,,
来源：液晶与显示 年份：2011
通过对掩膜版上不同狭缝与遮挡条设计与TFT沟道形貌、电学特性相互关系的分析,发现随着狭缝与遮挡尺寸的减小,TFT的电学特性、沟道处光刻胶起伏与最终关键尺寸偏移量都会改善...
[期刊论文] 作者：李田生,谢振宇,李婧,阎长江,徐少颖,陈旭,闵泰烨,,
来源：液晶与显示 年份：2013
TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的过孔发黑（黑点）问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发...
[期刊论文] 作者：周伟峰,薛建设,金基用,刘翔,明星,郭建,陈旭,闵泰烨,
来源：液晶与显示 年份：2011
通过对掩膜版上不同狭缝与遮挡条设计与TFT沟道形貌、电学特性相互关系的分析,发现随着狭缝与遮挡尺寸的减小,TFT的电学特性、沟道处光刻胶起伏与最终关键尺寸偏移量都会改善...
[期刊论文] 作者：李田生, 谢振宇, 张文余, 阎长江, 徐少颖, 陈旭, 闵泰烨,
来源：液晶与显示 年份：2012
...
[期刊论文] 作者：朱海鹏,吴海龙,但艺,冉敏,周欢,付剑波,周焱,闵泰烨,
来源：液晶与显示 年份：2019
画面闪烁(Flicker)是TFT-LCD画面品质评价的重要指标。文章基于ΔVp及闪烁发生机理,通过一系列实验,首先研究了Vcom对闪烁的影响,结果表明Vcom对闪烁具有显著影响;随着闪烁灰...
[会议论文] 作者：重云,郭慧鹏,闵泰烨,李文锋,田露,夏子祺,彭志龙,
来源：2014中国平板显示学术会议 年份：2014
在TFT-LCD生产过程中,重复性缺陷是光刻工艺中最常出现的一类不良,它的特点是不良在显示屏上位置固定,重复出现的规律性明显.在对该不良多年的跟踪研究过程中发现,个别尺寸产品在生产中发生概率较为频繁;本文首先介绍了光刻工艺和掩膜板(Mask)的构造,之后使用Ca......
[期刊论文] 作者：田宗民,陈旭,张金中,张文余,谢振宇,郭建,姜晓辉,闵泰烨,,
来源：真空科学与技术学报 年份：2014
通过对低速沉积的栅极绝缘层(GL层)和低速沉积的有源层(AL层)的薄膜沉积条件进行了优化,分析了沉积AL层的功率,间距等条件的变更对薄膜的沉积速率和均匀性的影响,解释这些工...
[期刊论文] 作者：李田生,谢振宇,张文余,阎长江,徐少颖,陈旭,闵泰烨,苏顺康,,
来源：液晶与显示 年份：2012
为了适应TFT-LCD小型化与窄边框化以及在面板布线精细化的趋势,提高工艺设计富裕量以及增加面板的实际利用率,研究了通过改变钝化层（PVX）的沉积工艺来减小液晶面板阵列工艺中连...
[期刊论文] 作者：田宗民,陈旭,谢振宇,张金中,张文余,崔子巍,郭建,闵泰烨,,
来源：液晶与显示 年份：2013
对低速沉积的栅极绝缘层和低速沉积的有源层的薄膜沉积条件进行了优化，设定4个实验条件，考察了不同条件下膜层的均匀性，TFT产品的开路电流（Ion）的整体分布规律以及均匀性，Ion的提升......
相关搜索：
