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[期刊论文] 作者：佐野一雄,青柳克伩,难波进,,
来源：光学仪器 年份：1980
本文研究了制造高质量闪耀离子蚀刻全息光栅的方法。对于Littrow装置在440nm波段时衍射效率达73％而波阵面质量不降低。闪耀离子蚀刻全息光栅的分辨率和杂散光特性取决于基底材...
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