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[期刊论文] 作者:马洁荪,
来源:微电子技术 年份:1999
本文结合我公司双层布线工艺技术的自我实践及我公司与日本富士通公司技术合作的成果,再引用当今世界上最先进的CMP多层布线技术,来阐述我国集成电路双层布线技术的实践及发展......
[期刊论文] 作者:江秉闰,马洁荪,,
来源:电子质量 年份:2011
芯片制造是半导体工业的核心环节,微细图形加工、高纯材料要求和精密设备控制对生产现场质量管理提出了苛刻的要求,4M1E是现场质量管理实践中总结出来的关键要素,对4M1E实行...
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