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[期刊论文] 作者：M.Y.Tsai,B.G.streetman,李伟,,
来源：微处理机 年份：1980
采用Auger电子分光镜(AES)检测由高剂量离子注入产生的硅上表面沾污层。纵向剖面分析证明当在注入机靶室的真空系统中用普通扩散泵油,Si~+或BF_2~+的高剂量注入导致～100A厚的...
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