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[期刊论文] 作者：R.Pelzer,P.Lindner,T.Glinsner,B.Vratzov,C.Gourgon,S.Landis,P.Kettner,C.Schaefer,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
纳米压印光刻技术已被证实是纳米尺寸大面积结构复制的最有前途的下一代技术之一。这种速度快、成本低的方法成为生物化学、μ级流化学、μ-TAS和通信器件制造以及纳米尺寸范...
[期刊论文] 作者：R.Pelzer,P.Lindner,T.Glinsner,B.Vratzov,C.Gourgon,S.Landis,P.Kettner,C.Schaefer,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
纳米压印光刻技术已被证实是纳米尺寸大面积结构复制的最有前途的下一代技术之一.这种速度快、成本低的方法成为生物化学、μ级流化学、μ-TAS和通信器件制造以及纳米尺寸范...
[期刊论文] 作者：Glinsner,B.Vratzov,C.Gourgon,S.Landis,P. Kettner,C. Schaefer,
来源：半导体技术 年份：2004
Nanoimprint Lithography has been demon-strated to be one of the most promising next genera-tion techniques for large-area structure replicationin the nanometer...
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