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[期刊论文] 作者：Jan Mulkens,Bob Streefkerk,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
在193 nm光刻中,已证明水是一种适于浸液式光刻的液体.浸液式光刻提出了一种可将传统的光学光刻拓展到45 nm节点,甚至到32 nm节点的潜能.另外,利用现有的透镜,浸液式光刻的选...
[期刊论文] 作者：Jan Mulkens,Bob Streefkerk,Han,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
论述了第五世代双扫描平台浸波式扫描曝光机的性能和进展.表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现.浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是...
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