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[期刊论文] 作者：Kado Hirobei,李开诚,
来源：微电子学 年份：2004
通常,Al和Al-Si合金膜在大规模集成电路中作为金属互连线而被广泛采用。在Al和Al-Si合金膜中精确形成微细图形的技术,对高密度、高速度的LSI来说,是必不可少的。在各种腐蚀...
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