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[期刊论文] 作者：Stephen Hwang,Keren Kanarik,,
来源：电子工业专用设备 年份：2017
随着半导体的特征尺寸越来越小,其设计的复杂度日益增加。这就要求蚀刻工艺必须在更高粒度化层面具备复杂的调节能力,以满足更严格的均匀性要求。在工艺均匀性管理工作链中,...
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