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Velocity distribution of sputtered Al atoms in an ICP reactor
[会议论文] 作者：D.Vempaire,R.Ramos,G.Cunge,M.Touzeau,N.Sadeghi, 来源：9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology 年份：2008
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Physical and chemical reactions in chlorine based etching plasmas:influence of plasma-surface intera
[会议论文] 作者：G.Cunge,N.Sadeghi,D.Vempaire,M.Touzeau,R.Ramos, 来源：9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology 年份：2008
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[会议论文] 作者：G.Cunge,N.Sadeghi,D.Vempaire,M.Touzeau,R.Ramos, 来源：9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology 年份：2008
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[会议论文] 作者：R.Ramos,G.Cunge,M.Touzeau,D.Vempaire,N.Sadeghi, 来源：9th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology 年份：2008
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