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[期刊论文] 作者：陈瑜,吴俊徐,郭平生,王连卫,M.van der Zwan,P.M.Sarro,,
来源：微细加工技术 年份：2005
研究了光辅助电化学刻蚀技术,并特别研究了阵列和硅衬底之间的边缘效应。在阵列边缘由于电流分布不均匀以及空穴从孔的侧壁注入,因此可以在边缘区域观察到结构的坍塌,采用一...
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