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[会议论文] 作者：Suzanne Burton,Kathryn Makos,
来源：第29届世界音乐教育大会 年份：2010
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[期刊论文] 作者：Makos,G.,童志义,
来源：电子工业专用设备 年份：1989
本文叙述了用于投影光刻机中的一种掩模对准技术。在片子与掩模的对准中,通过一种锁相干涉法确定其偏移量。此方法采用的对准图形是一种交叉的栅格,用氦氖激光束照明。...
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