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[期刊论文] 作者：Jan Mulkens,Bob Streefkerk,Martin Hoogendorp,,
来源：集成电路应用 年份：2005
For 193-nm lithography,water proves to be a suitable immersion fluid.ArF immersion offers the potential to extend conventional optical lithography to the 45-nm...
[期刊论文] 作者：Jan Mulkens,Bob Streefkerk,Martin Hoogendorp,童志义,,
来源：电子工业专用设备 年份：2004
在193 nm光刻中,已证明水是一种适于浸液式光刻的液体.浸液式光刻提出了一种可将传统的光学光刻拓展到45 nm节点,甚至到32 nm节点的潜能.另外,利用现有的透镜,浸液式光刻的选...
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