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[期刊论文] 作者：Palk.,LJ,武俊齐,
来源：微电子学 年份：1989
研究了采用硅片粘接和先用金刚石研磨、然后用非接触抛光的腐蚀方法(BE-SOI)制作薄膜SOI的制造工艺和这种膜的缺陷特性。制作了一些MOS器件,并测试了它们在辐射前后的电特性...
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