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[期刊论文] 作者：Peter,Singer（编）,
来源：集成电路应用 年份：2007
支年12月发布的ITRS 2006修正版，基本未对主要版本ITRS 2005做过多的修改。不过有一个例外就是增加双重图形作为潜在的45nm光刻解决方案（参见本刊《不改变光刻波长实现45nm半节...
[期刊论文] 作者：Peter,Singer（编）,
来源：集成电路应用 年份：2007
在45和32nm节点．对刻蚀而言，传统的挑战如对轮廓的严格控制、选择性、CD，均匀性和缺陷将伴随着新材料的使用，光刻的限制，新的器件结构和集成方案的引入将变得更加严峻。...
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