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[期刊论文] 作者：王刘坤,Twan Bearda,Karine Kenis,Sophia Arnauts,Patrick Van Doorne,陈寿面,Paul Mertens,Marc Heyns,
来源：半导体学报 年份：2004
采用可控的金属沾污程序 ,最大金属表面浓度控制在 10 1 2 cm- 2数量级 ,来模拟清洗工艺最大可能金属沾污表面浓度 .利用斜坡电流应力和栅注入方式测量本征电荷击穿来评估超...
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