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[期刊论文] 作者：Thyw.,JH,江舟,
来源：国外核聚变与等离子体应用 年份：1999
我们综述中性原子刻蚀。ｎｍ大小的器件、大面积平行沉积和有效抗蚀剂的结合证实了原子作为刻蚀的元件大有希望。我们证明，用几种抗蚀剂，其中包括Ａｕ上的链烷硫醇盐的自组合单层和ＳｉＯ２上的......
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