下一代光刻相关论文
当今世界离不开信息产业，信息产业离不开半导体集成电路芯片制造技术，即微电子技术。集成电路芯片制造工艺中最关键的就是光刻技术。......
光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术 ,X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种 ,具有产业化的应用前景。掩模技术......
极端紫外光刻(EUVL)作为实现100～32nm特征尺寸微细加工的优选技术，其光刻物镜的光学性能是实现高分辨图形制作的关键。利用光学设计......
分析了极紫外光刻技术作为下下代光刻技术的首选技术目前飞速发展阶段的状况，表明欧、美、日、俄等国家和地区在该领域集中了大量的......
介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情况。...
虽然纳米压印光刻在最近更新的ITRS中排名有所下滑（在22和16nm节点的潜在解决方案中，无掩膜光刻排到了它的前面），但Molecular Imprints......
SUSS MicroTec AG的全资子公司HamaTech APE GmbH ＆ Co．KG宣布，已接到几十份MaskTrack Pro设备订单。MaskTrack Pro于2009年投产，是用......
首次利用自主研发的光刻辅助设计软件MicroCruiser结合Prolith8.0.2,研究了分辨力增强技术在65 nm浸没式ArF光刻中的应用,研究表明......
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以......
虽然下一代光刻(NGL)技术的开发仍在继续大力开展工作，但许多人一直支持“不断延续光学光刻”的呼声。248nm光刻性能的进一步扩展，更......
介绍了65nm和45nm节点国际主流光刻机的最新研发进展,重点分析了目前提高光刻机性能的关键技术,讨论了目前各公司的主流机型及其性......
本文简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题，在跟踪报道国内外最新研究进展的同时，介绍前沿光刻技术的研发特点......
25年前，运算能力相当于今天的笔记本电脑的计算机，其硬件可要装满一间房子，其穿孔卡载满一卡车。自那时以来，计算机已变得小巧得多，而且......
浸没式光刻的原理是:在物镜的最后一个透镜与抗蚀剂和硅片之间充满高折射率液体,使数值孔径能够大于1,从而实现了提高分辨率、增大......
根据下一代光刻技术发展趋势和2005年国际半导体技术路径图(ITRS)给出的技术路径,浸没式ArF(氟化氩)光刻是实现特征尺寸(CD,Critic......
通过介绍光刻技术的演变和所面临的挑战,揭示下一代光刻技术的发展潜力和研究现状. 通过比较几种具有较大潜力的NGL(浸没式ArF光刻......
随着电子产业的技术进步和发展，光割技术及其应用已经远远超出了传统意义上的范畴，CMOS光刻市场几乎包括和覆盖了所有微细图形的传递......
<正>4.7新兴材料研究2009年"新兴材料研究"一章是2007版的更新。2009年的"新兴材料研究"一章已经重新组织,针对不同的应用来考察材......
