交替式相移掩模相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

交替式相移掩模相关论文

光刻仿真中二维掩模近场严格耦合波分析

现代光刻中为了提高系统的分辨力,采用了各种分辨力增强技术,这些技术必然带来数值孔径的提高、光刻关键尺寸的减小、掩模厚度的增......

会议

光刻二元掩模交替式相移掩模严格耦合波分析衍射效率近场分布

基于光刻系统的精义增强技术

随着集成电路特征线宽的不断减小，当前的光刻系统中光的衍射和干涉等问题严重地影响了掩模图形的曝光准确性，而要解决这种问题的关键......

期刊

光刻系统精义增强技术集成电路 RET 交替式相移掩模

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