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低氧SND技术相关论文
氧化沟低氧SND技术的脱氮特性及ORP表征
在常温条件下,采用Pasveer氧化沟,通过控制好氧区DO浓度为0.2~0.4 mg/L,保持好氧区与缺氧区体积比为1∶1,成功实现了同步硝化反硝......
期刊
氧化沟
低氧SND技术
脱氮特性
SVI
ORP
oxidation ditch
SND at low DO concentration
nitrogen re
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