像质补偿相关论文
针对光刻投影物镜中动镜X-Y向调节机构精度高、行程小、结构紧凑的需求,提出了一种X-Y向一体式调节机构.所提机构基于四连杆调节原......
为满足高速飞行器对目标快速识别和打击的需求,针对大观测场高速机载光电探测系统像质退化严重、像质补偿元件机构复杂、像差校正......
用于制造大规模集成电路的核心设备是光刻机,光刻机的核心部件是投影光刻物镜。为了将掩模图形近似完美地投影到光刻胶上,光刻物镜......
本文针对极大规模集成电路制造的工业化生产需求,开展面向100nm曝光节点的高数值孔径(NA)、深紫外(DUV)投影光刻物镜的光学设计与......
