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分步重复投影光刻机相关论文
0.8~1μm分步重复投影光刻机主要机构控制系统研制
传输片、预对准、调平及预讯焦系统是分步重复投影光刻机的重要组成部分,其精度和运行可靠对分步重复投影光刻机的整机性能指标将产......
期刊
传输片
调平
分步重复投影光刻机
机构控制系统
Wafer transporting
Pre-aligning
Levelling
Pre-focusing
M
IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究
本文主要针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,主要包括对准标记、工艺层、隔离技术......
学位
光刻对准
工艺层
集成电路
光刻工艺
隔离技术
分步重复投影光刻机
套刻
套刻误差
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