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反应性溅射相关论文
提高DC平面磁控溅射中靶材利用率的新方法
目前已得到广泛应用的DC平面磁控反应性溅射制备ZnO压电薄膜,由于靶面氧化和靶表面氧化物的沉积,导致放电电阻增加和靶表面的弧光放......
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金属Zn靶
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利用AC双磁控管阴极在大尺寸基体上进行反应性溅射电介质层
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