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反应离子刻蚀(RIE)相关论文
RMOS器件中硅槽及多晶硅栅的刻蚀
RMOS(Rectangular Grooved MOS)器件因具有独特的性能而得到较好的应用。本文介绍用RIE设备进行RMOS器件硅槽刻蚀的工艺,并对填满硅槽内的多晶硅栅的刻蚀亦作了研究。......
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硅槽刻蚀
反应离子刻蚀(RIE)
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