采用干法刻蚀和湿法腐蚀工艺刻蚀单晶(002〉晶向AlN薄膜.干法刻蚀中采用电感耦合等离子体(ICP)设备在不同功率和腔压等工艺参数以......

利用磁控溅射方法，在（100）Si、LaAlO3（LAO）和SrTiO3（STO）衬底上制备得到了La0.7Sr0.3MnO3（LSMO）薄膜，通过X射线衍射仪、原子力显微镜以及磁性......