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快速恢复外延二极管相关论文
快速恢复外延二极管用150mm高均匀性硅外延材料的制备
利用PE3061D型平板式外延炉,在150mm的重掺As的硅单晶衬底上采用化学气相沉积(CVD)方法制备参数可控且高均匀性的外延层,通过聚光......
期刊
硅外延材料
均匀性
化学气相沉积
快速恢复外延二极管
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