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描电子显微镜相关论文
基材温度对IP-TiN膜生长及组织结构的影响
用抛描电子显微镜对不同基材温度(150,250,350和450℃)的离子镀TiN膜的断口形貌进行了观察。结果表明,随着基材温度的升高,其柱状晶变为致密的组织结构;并......
会议
基材
温度
膜生长
组织结构
描电子显微镜
低温离子镀
断口形貌
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致密
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