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条宽均匀性相关论文
0.25μm掩模制造中激光直写参数的优化研究
主要介绍了激光直写的工艺原理和主要的直写参数,通过试验的方式,对0.25μm掩模制造中的激光直写参数束斑剂量、焦距、每束光的剂......
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条宽均匀性
硅片翘曲对光刻条宽均匀性的分析
通过对硅片翘曲情况及AZ603-14cp正性光刻胶的测试,在步进光刻机的聚焦曝光原理基础上分析了硅片翘曲对条宽均匀性的影响.从而得到......
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