溅射清洗相关论文
用直流等离子体化学气相沉积法沉积TiC、TiN、Ti(CN)以及钛的复合涂层。对在高速钢和硅基体上所得的各种钛化合物膜做了晶体结构分......
通过Ｘ光电子能谱（ＸＰＳ）、阳极氧化电压谱（ＡＶＳ）和Ｆｉｓｋｅ台阶电压的测量，研究了约瑟夫森结中ＡｌＯｘＡｌ隧道势垒．发现结的隧道势垒最佳沉积Ａｌ层厚度为７ｎｍ，Ａｌ上形成ＡｌＯｘ厚度只取......
英国华福生电化学中心曾对难熔金属(如钛和铬)气相沉积的一种新颖方法进行过初步研究。这种奇特的方法与气相沉积的方法不同,因为......
一、前言 大容量的发电机、变压器、断路器及分相封闭母线之间的电气连接接头螺接面,按设计和运行要求,不论是铜质接头,还是铝质接......
一、前言本文目的在于评述各种离子热处理工艺的工业地位,并以此强调每种工艺的优点和最适宜用的地方,这样便可给用户顺利地应用......
本工作是研究固体薄膜润滑剂应用于要求润滑的滑动或旋转零件表面的方法。靠离子镀和在各种温度的连续退火在钢上制备Cu/Sn双金属......
离子镀是在真空条件下,应用气体放电实现镀膜,即在真空室中使气体或被蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时把......
本文介绍利用空心阴梗高子镀技术,对常用的钼青铜合金进行表面镀膜强化,在起强化作用的同时,保持铝青铜材料的优点。试验表明,经离......
用热处理方法对单晶硅上的无定形硅薄膜进行外延再生长,需要在超高真空和高温(≥1000℃)条件下才能实现.我们用激光外延可以使在1......
在镁合金表面经注N后,通过改变Ar/N2流量比研究直流磁控溅射Ti-TiN膜对镁合金表面耐蚀性和耐磨性影响。利用扫描电镜(SEM)、X射线......
一、前言 为了进一步提高工模具和某些机械零件的使用寿命,目前发展了一种在金属表面上沉积一层碳化钛、氮化钛、氧化铝等镀层的新......
应用X射线衍射分析研究了活化源功率对反应溅射离子镀TiN涂层相组成的影响。随着活化功率的增加,膜层相组成朝着富氮相及其含量增......
介绍一种新的表面合金化技术－加弧辉光离子渗金属技术以及其基本原理和实验装置。列举了碳钢试样加弧辉光离子渗钛处理，并对其渗层显......
介绍了一种新型表面改性技术——离子束增强沉积技术的原理、方法,综述了该技术在制备优良抗蚀膜层方面的优势及最新研究进展。
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本文介绍了真空等离子喷涂（ＶＰＳ）的技术特点，主要叙述了ＺＤＰ－１７００型ＶＰＳ设备真空系统的特点和主要性能。介绍了用ＺＤＰ－１７００型ＶＰＳ设备喷涂的几种典型涂层的性能，并与大......
绪言很多机械零件采用渗碳淬火来改善耐磨性和疲劳强度,仅每年用于汽车的渗碳钢约为25t,而齿轮、轴之类的零件几乎都是经渗碳淬火......
研究了Ａ１含量对（Ｔｉ，Ａ１）Ｎ薄膜高温抗氧化性能的影响，并与ＴｉＮ薄膜进行了对比试验．试验结果表明：（Ｔｉ，ＡＩ）Ｎ薄膜的抗氧化性能明显优于ＴｉＮ薄膜；随着薄膜中Ａ１含量的增加，薄......
利用透射电镜研究了铁基体等离子体增强磁控溅射离子镀ＴｉＮ膜的组织和结构．在沉积ＴｉＮ之前先镀一层极薄的钛中间层，继之再沉积ＴｉＮ．研究结果表明：在......
利用等离子体增强磁控溅射离子镀（ＰＥＭＳＩＰ），先在铁基体上镀一层很薄的钛中间层，继之沉积ＴｉＮ。对膜层进行俄歇电子能谱（ＡＥＳ）分析和透射电镜（ＴＥＭ）分析。结果表......
研究采用了ＭＥＷＡ源等离子体浸没离子注入的方法。利用钛的等离子体的沉积与自身离子的注入．形成ＩＢＡＤ效应。在氮气气氛环境下，在ＡＩＳ１３０４不锈钢表面获得......
物理气相沉积（PVD）TiN镀层已获广泛应用。为进一步改善TiN镀层的性能，近年来致力于复合处理的研究，其中等离子氮化（PN）＋PVDTiN复合镀层的......
介绍了等离子体化学热处理、阴极溅射、离子镀、离子注入和等离子喷涂等等离子体表面改性技术现代工艺方法的工作原理、研究现状、......
1 前景和关键领域热化学预处理和物理气相沉积已经成为现代先进制造技术的一部分。热化学预处理本身就是由于汽车工业的大规模发......
一、引言n型Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te是8～14微米谱区红外传感器的常用材料。已知Hg_(0.8)Cd_(0.2)Te上原身氧化物形成的积累型界面层可......
在俄歇电子谱仪使用中,经常可观察到电子束在样品上留下的黑斑。研究证明,黑斑和表面的环境污染有关。黑斑产生的同时,碳峰峰位可......
采用双层金属布线可以提高集成电路的集成密度、集成度和速度。本文报道了双层金属布线工艺技术成功地应用于制造标准3μm硅栅CMOS......
(超)浅结制造技术是当今VLSI/ULSI的关键技术之一,本文分析了该技术中牵涉到的几个问题,在对当前国外流行的几种实用方法评估对比......
本文研究了在超高真空低温ＣＶＤ（ＣｈｅｍｉｃａｌＶａｐｏｒＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）硅外延中，ＥＣＲ（ＥｌｅｃｔｒｏｎＣｙｃｌｏｔｒｏｎＲｅｓｏｎａｎｃｅ）微波等离子原位溅射清洗对外延层界面损伤的情况，实验表明，界面处引进的损伤是较严重的，它与衬底偏......
编号:C95—2—8DLDA—700磁控溅射离子镀设备中引进电子发射源和活化源,显著提高离化率,技术及设备为国内首创。具有离化率高,基片......
面向强光光学元件的低损伤制造,概述了关联激光损伤性能的损伤前驱体检测表征方法,提出纳米尺度污染与化学结构缺陷等损伤前驱体是......
本文研究了超高真空低温硅外延中，ＥＣＲ微波等离子原位溅射清洗对外延层界面损伤的情况。超高分辨透射电镜照片表明，界面引起的损伤是较严......
