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等离子体诱导损伤相关论文
Ba<,0.65>Sr<,0.35>TiO<,3>薄膜的磁增强反应离子刻蚀工艺研究
采用磁增强反应离子刻蚀(MERIE)技术,在射频功率为80 W、总气体流量速率为50 sccm 和本底真空度优于0.1 Pa等工艺参数保持不变的情......
学位
BST薄膜
MERIE工艺
CF4/Ar/O2等离子体
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