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绝缘衬底硅技术(SOI)相关论文
高温SOI MOS器件的研究与设计
该论文系统的研究了27~300℃温度范围内SOI/SIMOX MOS器件的物理特性和电学性能.该论文对SOI MOS器件主要寄生效应-浮体效应的温度......
学位
高温
温度特性
绝缘衬底硅技术(SOI)
金属-氧化物-半导体场效应晶体管
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