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对奥氏体不锈钢基体上采用离子束混合技术进行不同厚度的钨膜沉积,沉积后的试样进行了H+注入前后的XRD和SEM微观分析,研究了H+辐照......
对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+辐照前后的XPS分析,研究了H+辐照对W的结合能的影响.分析结果表明,沉积的W膜中......
本文采用了一种新的等离子化学工艺来制备钨薄膜。这种工艺采用超细粉或前驱体作为原料,利用低压下等离子使原料气化,蒸发沉积成纳......