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采用脉冲控制模式将气体放电伏安特性由磁控溅射离子镀的“正欧姆”区间引入到“反欧姆”区间,并在不同靶电流密度下制备了TiN薄膜......
本文为解决磁控溅射技术靶材利用率低及结构灵活性不足的缺点，参考近年来高功率脉冲磁控溅射技术的发展及所取得的成果，提出并研究了......
采用等离子体增强平衡磁控溅射技术在316L奥氏体不锈钢基体表面制备了不同靶电流密度条件下的Cr2N薄膜,并检测分析了靶电流密度对......
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