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高-k材料相关论文
二元高—k材料研究进展及制备
随着大规模集成电路的发展,需要一种高介质材料来代替传统的SiO2,介绍了有可能替代SiO2的几种二元材料的研究现状,主要包括Si3N4、......
期刊
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CVD
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界面和能带结构对电荷俘获型器件存储性能影响的研究
SONOS(Si/SiO2/Si3N4/SiO2/poly-Si)型存储器具有写入/擦除速度快、功耗低、数据保持时间长以及与CMOS工艺兼容等优点,被广泛应用......
学位
电荷俘获型存储器
高-k材料
界面态
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微波阻抗显微术
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