C涂层相关论文
以C3H8和CH3SiCl3(MTS)为先驱体原料,用化学气相沉积法在石墨基体表面分别制备了C涂层、SiC涂层。采用X射线衍射仪和扫描电镜分析......
BC涂层提供了低Z（原子序数）和稳定的耐熔表面。在不锈钢和铜合金基片上直接采用低气压等离子喷涂法实现200～300μm厚的BC涂层，是一种经......
采用透射电镜和扫描电镜研究了SiC纤维增强Ti基复合材料的界面反应,重点分析了C涂层对界面行为的影响.结果表明,C涂层可以明显改善......
为了提高分梳辊用齿条的使用寿命，介绍了化学抛光、DLC、WC／C、化学镀Ni—P合金，梯度材料5种不同表面处理工艺的基本原理及其优缺点，通......
采用化学气相沉积（CVD）法，在SiC纤维表面沉积了100nm厚的C涂层，研究了制备温度对c涂层微观结构、单丝纤维体电导率及纤维编制体介电性......
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根据化学气相沉积（CVD）工艺制备Si C陶瓷涂层的工艺特点和典型异形构件的结构特点,建立了异形构件表面化学气相沉积Si C涂层的数学模......
针对SiC纤维的表面缺陷引起的低强度断裂问题，采用CVD技术对SiC纤维进行了C涂层．利用了XRD和SEM分别对无C涂层SiC纤维和C涂层S配纤维......
