CF4、NF3等全氟化合物（Perfluoro compounds）被广泛用作半导体工业的蚀刻气和清洗气,具有极高的温室效应潜值（GWP）,如CF4的GWP为CO2的6......

程序升温联合恒温反应方式研究了CF4在P／Al2O3上分解反应，用XRD、BET表面积测试技术对反应前后的P／Al2O3上进行了表征。结果表明：在Al2......

考察了在无水条件下γ-Al2O3基金属氧化物M-Al2O3（M=Mg、La、Ba、Ce、Ni、P）与CF4反应转化为金属氟化物的反应.结果表明,在所筛选的......

CF4、NF3等全氟化合物（Perfluoro compounds）被广泛用作半导体工业的蚀刻气和清洗气,具有极高的温室效应潜值（GWP）,如CF4的GWP为CO2的6......