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用弹道电子显微术研究 Co-Ti-Si系统的退火温度对 CoSi_2/Si势垒不均匀性的影响(英文)
通过在硅 (10 0 )衬底上淀积的 Co(3nm ) /Ti(1nm )双金属层在不同退火温度下的固相反应 ,在硅衬底上制备了超薄外延 Co Si2 薄膜 ......
期刊
电子显微术
不均匀性
退火温度
CoSi_2/Si
Co-Ti-Si
肖特基势垒
硅化物
固相反应
高斯分布
硅衬底
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