Cr靶电流相关论文
使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了C/Cr复合镀层,并研究了Cr靶电流对C/Cr复合镀层摩擦学性能的影响规律。采用XPS检测了C/......
本文采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术在高速钢、铝合金和单晶硅基体上制备了C-Cr镀层。采用X射线光电子能谱仪(XPS)、扫描电子......
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备，在不同Cr靶电流参数下制备Cr改性类石墨薄膜，测试了薄膜的硬度、结合强度、摩擦系数和比磨损率......
