采用磁控溅射的方法,在诱导磁场下制备了[(Ni0.79Fe0.21)1-xNbx]/NiFe/Ta系列膜,测量了种子层中Nb原子的百分含量、膜的微结构和膜......

采用NiFeNb为种子层,制备(Ni82Fe18)1-xNbx(35A)/(Ni82Fe18)(150A)/Ta(30A)系列膜,并对其颗粒大小和磁滞回线等进行测量,探讨种子......

采用磁控溅射的方法．在诱导磁场下制备了[(Nio．79Feo．21)1-xNbx]／NiFe／Ta系列膜，测量了种子层中Nb原子的百分含量、膜的微结构和膜的MR(M......

本文简单介绍了磁电阻（MR）效应的研究进展，应用和来源，以及坡莫合金薄膜磁电阻效应的研究状况。以NiFeNb三元合金为新的种子层，采用直流......

以NiFeNb为种子层,制备(Ni79Fe21)1-xNbx(5nm)/(Ni79Fe21)(20nm)/Ta(3nm)系列膜,并对其颗粒大小、磁滞回线及表面粗糙度等进行测量......