直流热阴极PCVD方法是快速沉积高品质金刚石膜的一种方法,相对于常规冷阴极辉光放电而言,热阴极辉光放电是一种新型放电形式.该论......

由于难加工材料的不断出现,对刀具的要求越来越高,因此有必要通过PCVD(等离子化学气相沉积技术)方法给其表面涂镀陶瓷薄膜Si3N4-BN......

将Ａｒ（９５％）－ＳＨ４（２．５％）－Ｄ２（２．５％）混合气体等离子体直流正辉区用化学敢相沉淀（ＰＣＶＤ）方法制备α－Ｓｉ：Ｄ／Ｈ薄膜，采用双探针技术测量了混合气体等离子体参数，红外照相方法测量了反应腔......