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a—C:F:H薄膜的化学键结构
使用CF4和CH4为源气体,利用射频等离子体增强化学气相沉积法,制备了a-C:F:H薄膜样品.采用拉曼光谱仪、傅里叶变换红外光谱仪、X射......
期刊
a—C:F:H薄膜
等离子体增强化学气相沉积
低介电常数
化学键
a-C : F : H thin films
plasma enhanced chemica
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