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原子层沉积工艺制备催化薄膜厚度对生长碳纳米管阵列的影响
通过原子层沉积(ALD)工艺在硅基底依次沉积氧化铝缓冲层薄膜和氧化铁催化薄膜,然后利用管式炉进行水辅助化学气相沉积(WACVD)生长垂直......
期刊
原子层沉积
氧化铁
水辅助化学气相沉积
垂直碳纳米管阵列
结构可控
三维样品
atomic layer deposition
iron oxide
wate
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