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反应离子刻蚀设备的研究
反应离子刻蚀是 20 世纪 70 年代产生的一种干法刻蚀技术,至今仍广泛应用于微细加工领域。本文基于科研和实验室应用的角度,提出了一......
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干法刻蚀
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利用约束刻蚀剂层技术提高硅的刻蚀分辨率
高分辨率刻蚀技术对于微机械及微电子器件的加工具有十分重要的意义,而硅是其中极为重要并占统制地位的材料,近年来,扫描电化学显微镜......
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约束刻蚀剂层
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