四配位非晶碳薄膜相关论文
采用磁过滤真空溅射离子技术，用氩和氮混合气体共溅射石墨靶制备含氮的四配位非晶碳薄膜，研究了氮分压对薄膜的拉曼光谱和表面形貌的......
采用磁过滤真空溅射离子沉积技术,用氩气和氮气共溅射石墨靶,在不同氮气分压下,制备了一组不同氮含量的四配位非晶碳薄膜(ta-C:N).......
四配位非碳薄膜是近年来发展的一种新型宽带隙半导体材料，具有独特的物理化学特性，本文对四配位非晶碳薄膜的研究意义，制备方法，形成机......
