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射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)相关论文
射频等离子体功率参数对硅基发光薄膜生长与结构的影响
采用射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)技术,以SiH4和Ar的混合气体为源气体,在石英玻璃衬底上制备了硅基发光薄膜.利用场发射扫描......
期刊
射频等离子体化学气相沉积(RF-PECVD)
硅基发光薄膜
生长与结构
radio frequency plasma enhanced chemical vap
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