【摘 要】
：
我国煤气化技术的发展起步较晚，以固定床间歇气化制气和常压发生炉制气为主，目前氮肥企业采用的制气技术主要有：UGI、德士古、恩德、灰熔聚四种制气工艺。我国中小氮肥企业，主要采用固定床间歇气化制半水煤气的生产工艺。本文重点介绍具有中国特色的固定床煤气发生炉制半水煤气的技术进展情况。
【机 构】
：
全国化工合成氨设计技术中心站，上海 250013
【出 处】
：
全国中氮情报协作组第23次技术交流会、氮肥企业增产节能技术改造暨产品结构调整专题研讨会
论文部分内容阅读
我国煤气化技术的发展起步较晚，以固定床间歇气化制气和常压发生炉制气为主，目前氮肥企业采用的制气技术主要有：UGI、德士古、恩德、灰熔聚四种制气工艺。我国中小氮肥企业，主要采用固定床间歇气化制半水煤气的生产工艺。本文重点介绍具有中国特色的固定床煤气发生炉制半水煤气的技术进展情况。
其他文献
湿式分析领域中的高速分析是我国化学分析者独创的符合我国国情的分析技术，具有快、准、简、廉的特点(快是目标，准是基础，简是原则，廉是要求)。在我国冶金、机械、铸造行业中仍有着广阔应用前景。无论何种分析方法或分析仪器，都有其一定的适应性和局限性，因此作为湿式分析高速分析仪器的设计制造模式也应是多样性的，以适应不同使用者的需求。为此，本研究在3B型钢铁硅、锰、磷自动分析仪的基础上，设计制造了HGA-3N
从企业发展的需要出发，本文分析了企业检测中心目前的现状，提出了创建检测科研型中心的构想和标志，并通过具体事例介绍了实现这一目标的做法和取得的成效。
本研究通过真空自耗电弧熔炼的方法制备了体积分数为5%的TiB和TiC共同增强的Ti-6A1-4V基复合材料。高温置氢后获得了氢含量为0wt.%、0.15、wt.%和0.60wt.%的复合材料。在相同条件下(始锻1000℃，终锻880℃，变形量70%)进行高温锻造。真空退火后进行了室温和高温(400℃)力学性能测试。结果显示，对于氢含量为0.15wt.%的复合材料，热氢处理后室温和高温力学性能与原始
用气体放电活化反应蒸发沉积技术(GDARE)制备了纳米ZnO薄膜，采用层层自组装(LBL)的方法在其表面组装了高量子产率的CdSe@ZnS量子点。并用XRD、AFM、分析其晶体结构并表征其表面形貌。测试了紫外吸收、荧光发射谱，复合膜在577nm处表现出较好的荧光特性，在太阳能电池、环境测试等方面具有良好的应用前景。
碳纳米管(CNTs)有高的机械强度、奇特的电学性能、优良的储氢能力等一系列的物理化学性质，在复合材料、纳米电子学器件、微型传感器、电动机械装置等方面具有广阔的应用前景。CNTs具有纳米级尖端、大长径比、高强度、高韧性、良好的热稳定性及导电性，使其成为理想的场发射材料。与普通场发射材料相比，CNTs具有更低的场发射阈值，成为制作高电流密度冷阴极场发射源的理想材料，在场发射电子枪、平板显示器等众多领域
由上海市真空学会主办，江苏省真空学会、安徽省真空学会、浙江省真空学会协办的第六届华东三省一市真空学术交流会，隆重举行。这次会议是长三角地区真空科技界、真空企业界又一次盛会，展示近两年来真空科技发展的成果。广大真空学会会员和从事真空技术研究、开发、生产和应用等科技人员踊跃参加会议。做为高校教师，作者从本科专业教学和人才培养层面就真空电子技术专业建设谈一些意见和看法。
本文利用真空喷雾法制备了具有梯度结构的聚合物薄膜，在此基础上制备了发光器件(PLED)。有机小分子tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum(Ⅲ)(Alq3)作为电子传输材料，高分子poly(3-hexylthiophene-2，5-diyl)(P3HT，regiorandom)作为空穴传输材料。尽管使用了同一种有机溶剂来溶解以上两种材料，利用真空喷雾法，Alq3在PLE
以钼网作为掩膜，以镀Ni的硅片为基底，通过AlCl3和NH3的反应，在700℃时实现AlN纳米锥的图案化生长。图案化生长使AlN纳米锥的屏蔽效应降低，场发射性质有明显改善。与未图案化的样品相比，图案化AlN纳米锥的开启电压和阈值电压显著降低，场发射电流密度显著提高。这种图案化生长技术有望拓展到其它纳米冷阴极材料体系，优化其场发射性能。
本文采用直流磁控反应溅射方法在不锈钢基体上沉积ZrCN薄膜，通过正交实验设计，重点分析偏压、C2H2流量和N2流量等因子对薄膜力学性能的影响作用。利用扫描电镜(SEM)和辉光放电发射光谱仪(GD-OES)对薄膜表面形貌及成份进行表征，用洛氏硬度计、维氏硬度计等测评薄膜的力学性能。结果表明：偏压对膜层硬度和膜层厚度影响最为显着，而N2流量对膜层附着性能影响最为显着，性能优化参数组合为偏压250V，N
本文采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜，选用四异丙醇钛(TTIP)，NH3作为反应先驱体，另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速，采用自制的DBD-CVD系统，模拟浮法玻璃在线镀膜工艺，旨在系统地研究掺N对薄膜结构、光学性能的影响。