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以水玻璃为主要原料、采用多次生长法，利用等液面、低zeta电位生长、高电位陈化等控制过程，生产出具有不同粒径、稳定的碱性单分散硅溶胶产品，并实现120nm大粒径硅溶胶生长可控，突破生长大粒径的难题。
微电子CMP用SiO2研磨料的制备
【摘 要】
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以水玻璃为主要原料、采用多次生长法，利用等液面、低zeta电位生长、高电位陈化等控制过程，生产出具有不同粒径、稳定的碱性单分散硅溶胶产品，并实现120nm大粒径硅溶胶生长
【机 构】
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河北工业大学 信息工程学院,天津 300130
【出 处】
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第十五届全国半导体集成电路、硅材料学术会议
【发表日期】
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2007年期
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